電性能的優(yōu)化可以從以下幾個方面考慮，即控制接觸電鍍表面已有的和即將出現(xiàn)的薄膜。排針排母的電氣性能的主要要求之一是建立和保持排針排母的穩(wěn)定阻抗。

為了實現(xiàn)這個目標，需要金屬接觸界面來提供這種固有的穩(wěn)定性。為了建立這樣的接觸界面，表面膜必須能夠在接觸配合期間避免或裂開。這兩種不同的選擇，明確了貴金屬或稀有金屬與普通金屬的區(qū)別。

在某種程度上，貴金屬涂層(如金、鈀及其合金)基本上不含表面膜。對于這些涂層來說，在界面上進行金屬接觸相對簡單，因為它只需要在配合過程中接觸表面的伴侶的運動。

通常這很容易實現(xiàn)。為了保持接觸界面阻抗的穩(wěn)定性，排針排母的設計要求接觸面的貴金屬要保持，以防止污染物、賤金屬擴散、接觸磨損等外部因素的影響。

普通的金屬鍍層，尤其是錫或錫合金，自然會覆蓋上一層氧化膜。錫接觸涂層的作用是因為這種氧化層在匹配過程中容易被破壞，從而容易建立金屬接觸。排針排母設計的要求是保證排針排母配合時氧化膜不破裂，保證電連接器有效期內接觸界面不再氧化。

在磨損腐蝕中，再氧化腐蝕是錫接觸涂層主要的性能退化機制。排針排母接觸鍍層最好視為普通金屬鍍層，因為鍍層容易被硫化物和氯化物腐蝕。由于閥門通道的形成，鎳鍍層通常被視為普通金屬。